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工藝原理

Gelor®-UV紫外光觸媒催化氧化凈化技術(shù)是集高能高臭氧紫外光光解技術(shù)、納米光觸媒催化氧化技術(shù)于一體,工藝原理如下:

利用UV紫外線光束照射廢氣,裂解廢氣分子鏈結(jié)構(gòu),使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等;

利用UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧,UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3,臭氧具有強(qiáng)氧化能力,對(duì)異味氣體有立竿見影的清除效果;

催化劑在受到紫外線光照射時(shí)生成化學(xué)活性很強(qiáng)的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基,攻擊有機(jī)物,達(dá)到降解有機(jī)物的作用。


光催化工藝原理圖



技術(shù)特點(diǎn)

·能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,除臭效率高。

·無需對(duì)惡臭氣體進(jìn)行特殊的預(yù)處理,設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30度~95度之間,濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作,無需添加其他物質(zhì)及藥劑參與處理。

·設(shè)備占地面積小,運(yùn)行維護(hù)操作簡單,設(shè)備能耗低,(每處理1000立方米/小時(shí),僅耗電約0.8度電能),設(shè)備風(fēng)阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

·適應(yīng)性強(qiáng),適用氣體種類多,可連續(xù)和間歇運(yùn)行。



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